| 字段 | 字段内容 |
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| 001 | 0179001268 |
| 005 | 19950726104503.0 |
| 010 | $d: RMB1.85 |
| 091 | $a: CN$b: 13119.782 |
| 100 | $a: 19950726d1979 em y0chiy0121 ea |
| 101 | $a: chi$c: eng |
| 102 | $a: CN$b: 310000 |
| 105 | $a: y z 000yy |
| 106 | $a: r |
| 200 | $1: 0$a: 光弹性应力分析$A: guang tan xing ying li fen xi$f: (英)柯斯克(A.Kuske),(英)罗伯逊(G.Robertson)著$g: 王燮山等译 |
| 210 | $a: 上海$c: 上海科学技术出版社$d: 1979 |
| 215 | $a: 515页$d: 20cm |
| 300 | $a: 书名原文:Photoelastic stress analysis |
| 510 | $a: Photoelastic stress analysis$z: eng |
| 606 | $a: 应力分析-光弹性 |
| 690 | $a: O348.1$v: 3 |
| 692 | $a: 52.58 |
| 701 | $A: 1$a: Robertson$b: G.$4: 著 |
| 702 | $a: 王燮山$A: wang xie shan$4: 译 |
| 801 | $a: CN$b: ZSL$c: 19950726 |
| 905 | $b: 0032476-0032478$d: 52.58$e: 395 |
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